在已經(jīng)介紹的物理氣相沉積PVD技術(shù)中,沉積膜基本就是靶的材料,沉積過程中基本上不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。而化學(xué)氣相沉積(簡稱CVD)與PVD技術(shù)最大的差異就在于沉積膜前有化學(xué)反應(yīng)發(fā)生,沉積的膜則是反應(yīng)產(chǎn)物之一。化學(xué)氣相沉積是采用含有膜層中各元素的揮發(fā)性化合物或單質(zhì)蒸氣,在熱基體表面產(chǎn)生氣相化學(xué)反應(yīng),反應(yīng)產(chǎn)物形成沉積涂層的一種表面技術(shù)。比PVD的覆蓋性好,但沉積溫度高。化學(xué)氣相沉積種類很多,最常用的是常壓CVD,該法生產(chǎn)率低,沉積膜均勻性稍差,反應(yīng)溫度高,會造成基體組織發(fā)生變化。低壓CVD,即在40Pa下沉積,生產(chǎn)率高,反應(yīng)溫度在150℃左右,沉積膜均勻,成分易控制。有機化合物CVD,利用金屬化合物,如Ni(CO)4,反應(yīng)溫度低。激光CVD是用激光激活,使常規(guī)CVD技術(shù)強化,降低反應(yīng)溫度,易控制膜的成分與純度,厚度范圍寬0.01~20μm。化學(xué)氣相沉積的設(shè)備簡單,操作維護方便,靈活性,成本低廉,可以在較大范圍準確調(diào)控膜結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分,不僅是現(xiàn)代固體電子學(xué)工藝的基礎(chǔ)(沉積各咱絕緣膜、多層布線等),同時該技術(shù)亦在工模具行業(yè)中發(fā)揮了巨大作用。特別是一睦如氮化物、碳化物、金剛石和類金剛石等超硬膜的沉積,大大提高了模具等工件的耐磨、耐蝕性。CVD法具有以下一些特點:
1)設(shè)備簡單,操作維護方便,靈活性強,只要選用不同的原料,采用不同的工藝參數(shù),就可以制備性能各異的單一或復(fù)合涂層。
2)由于它繞鍍性能好,所以可涂覆帶有槽、溝、孔、不通孔等各種形狀的復(fù)雜工件。
3)由于沉積溫度高(800~1100℃),涂層與基體之間結(jié)合牢靠,經(jīng)CVD處理的工件,即使在十分惡劣的條件下工作涂層也不易脫落。但對于高溫時變形量較大的鋼材和尺寸要求特別精密的工件,要考慮變形的影響。
4)涂層致密均勻,并且可以控制它們的純度、結(jié)構(gòu)和晶粒度。
進一步詳情請致電021-57628777,以獲得更多有關(guān)模具選材、模具熱處理工藝及相關(guān)的應(yīng)用信息。