在已經(jīng)介紹的物理氣相沉積PVD技術(shù)中，沉積膜基本就是靶的材料，沉積過程中基本上不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。而化學(xué)氣相沉積（簡稱CVD）與PVD技術(shù)最大的差異就在于沉積膜前有化學(xué)反應(yīng)發(fā)生，沉積的膜則是反應(yīng)產(chǎn)物之一。化學(xué)氣相沉積是采用含有膜層中各元素的揮發(fā)性化合物或單質(zhì)蒸氣，在熱基體表面產(chǎn)生氣相化學(xué)反應(yīng)，反應(yīng)產(chǎn)物形成沉積涂層的一種表面技術(shù)。比PVD的覆蓋性好，但沉積溫度高。化學(xué)氣相沉積種類很多，最常用的是常壓CVD，該法生產(chǎn)率低，沉積膜均勻性稍差，反應(yīng)溫度高，會造成基體組織發(fā)生變化。低壓CVD，即在40Pa下沉積，生產(chǎn)率高，反應(yīng)溫度在150℃左右，沉積膜均勻，成分易控制。有機化合物CVD，利用金屬化合物，如Ni（CO）4，反應(yīng)溫度低。激光CVD是用激光激活，使常規(guī)CVD技術(shù)強化，降低反應(yīng)溫度，易控制膜的成分與純度，厚度范圍寬0.01～20μm。化學(xué)氣相沉積的設(shè)備簡單，操作維護方便，靈活性，成本低廉，可以在較大范圍準確調(diào)控膜結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分，不僅是現(xiàn)代固體電子學(xué)工藝的基礎(chǔ)（沉積各咱絕緣膜、多層布線等），同時該技術(shù)亦在工模具行業(yè)中發(fā)揮了巨大作用。特別是一睦如氮化物、碳化物、金剛石和類金剛石等超硬膜的沉積，大大提高了模具等工件的耐磨、耐蝕性。CVD法具有以下一些特點：
1）設(shè)備簡單，操作維護方便，靈活性強，只要選用不同的原料，采用不同的工藝參數(shù)，就可以制備性能各異的單一或復(fù)合涂層。
2）由于它繞鍍性能好，所以可涂覆帶有槽、溝、孔、不通孔等各種形狀的復(fù)雜工件。
3）由于沉積溫度高（800～1100℃），涂層與基體之間結(jié)合牢靠，經(jīng)CVD處理的工件，即使在十分惡劣的條件下工作涂層也不易脫落。但對于高溫時變形量較大的鋼材和尺寸要求特別精密的工件，要考慮變形的影響。
4）涂層致密均勻，并且可以控制它們的純度、結(jié)構(gòu)和晶粒度。
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