等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）是將低氣壓氣體放電成等離子體應(yīng)用于化學(xué)氣相沉積中的一項(xiàng)新技術(shù)。其工作原理是：先向真空室內(nèi)通入氫氣和氮?dú)�，真空室為正極，工件為負(fù)極，接1kV～2kv的電壓，接通電源時(shí)，產(chǎn)生輝光放電，再通入TiCl4氣體，在電離狀態(tài)下生成TiN并沉積在工件上。沉積時(shí)工件的溫度為200℃～500℃。PCVD技術(shù)具有沉積溫度低、適應(yīng)性（鍍層繞鍍性）好、設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作簡(jiǎn)便等優(yōu)點(diǎn)，是具有發(fā)展前途的表面沉積技術(shù)。
6）TD技術(shù)
TD技術(shù)（Toyota Diffusion Coating Process）是日本（株）豐田中心研究所開(kāi)發(fā)的，是用熔鹽浸鍍法在模具表面鍍覆VC、NbC、CrC等碳化物，可采用一般的鹽浴設(shè)備。將硼砂放入坩堝加熱至800℃～1000℃熔化，然后加入形成碳化物元素的粉末，將需要強(qiáng)化的模具工件放入鹽浴中浸漬一定時(shí)間取出，在工件表面可形成VC、NbC、Cr7C3+Cr23C6等涂層。從鹽浴中取出后可直接進(jìn)行淬火操作。
TD處理幾乎能在需要耐磨性的所有領(lǐng)域應(yīng)用，對(duì)模具行業(yè)而言，TD處理在沖壓模、冷鐓模和鑄模等方面應(yīng)用最多。TD法設(shè)備簡(jiǎn)單，操作方便，成本低，而其表面強(qiáng)化效果與CVD和PVD法相近，TD處理的國(guó)外是最受重視的表面強(qiáng)化技術(shù)。
7）電火花表面強(qiáng)化處理
電火花表面強(qiáng)化處理是利用火花放電時(shí)釋放的能量，將一種導(dǎo)電材料熔滲到工件表面，構(gòu)成合金化的表面強(qiáng)化層，從而達(dá)到改善工件表面物理及化學(xué)性能的目的，其特點(diǎn)是：電火花強(qiáng)化層是電極與工件材料的合金層。例如，以硬質(zhì)合金作電極強(qiáng)化工件，表面硬度可達(dá)1100HV～1400HV；強(qiáng)化層與基體結(jié)合牢固，耐沖擊，不剝落；強(qiáng)化處理時(shí)，工件處于冷態(tài)，且放電極小，時(shí)間短，沒(méi)有退火、變形等現(xiàn)象，可大大提高表面耐熱性、耐蝕性、熱硬性和耐磨性。生產(chǎn)實(shí)踐表明，經(jīng)電火花表面處理后，擠壓模具的使用壽命可提高一倍以上。
